Полірування елементів оптотехніки з діелектриків, провідників і напівпровідників
DOI:
https://doi.org/10.20535/.2024.XXIV.315552Ключові слова:
полірування, діелектрики, провідники, напівпровідники, швидкість знімання матеріалуАнотація
В результаті дослідження механізму знімання оброблюваного матеріалу під час полірування елементів оптотехніки з діелектриків, провідників і напівпровідників за допомогою дисперсних систем з мікро- і нанопорошків встановлено, що утворення наночастинок шламу є наслідком ферстерівського резонансного перенесення енергії (FRET) між кластерами, які утворюються на поверхнях оброблюваного матеріалу і частинки полірувального порошку. Показано, що швидкість знімання оброблюваного матеріалу визначається у відповідності до загальних закономірностей резонансної взаємодії між утвореними на вказаних поверхнях кластерами, квантовими точками і нанокристалами, в залежності від енергії зв’язку діелектрика, ширини забороненої зоні напівпровідника або оксиду металу. Встановлено, що результати теоретичного розрахунку швидкості знімання оброблюваного матеріалу добре узгоджується з даними експериментального визначення продуктивності полірування діелектричних матеріалів (оптичного скла марки К8 і поліметилметакрилату), напівпровідникових матеріалів (антимоніду індію (InSb) і германію (Ge)), а також міді (Cu) за відхилення 1–7 %.
Посилання
Поперенко Л. В. Основи фізики матеріалів оптотехніки: Навчальний посібник. / Л. В. Поперенко, В. С. Стащук. – К.: ВПЦ «Київський університет». 2011. – 686 с.
Філатов Ю. Д. Фізичні засади формоутворення прецизійних поверхонь під час механічної обробки неметалевих матеріалів: Монографія. / Ю. Д. Філатов, В. І. Сідорко, О. Ю. Філатов, С. В. Ковальов. – К.: Наук. Думка. – 2017. – 248 с.
Filatov Yu. D. Modeling and experimental study of surfaces optoelectronic elements from crystal materials in polishing, In: J. Zhang, B. Guo, J. Zhang (Eds.), Simulation and Experiments of Material-Oriented Ultra-Precision Machining, Springer Tracts in Mechanical Engineering, Springer, Singapore. – 2019. – P. 129–165.
Філатов Ю. Д. Квантовий механізм полірування оптичного скла. Надтверді матеріали. – 2024. – № 4. – С. 67–79.
Філатов Ю. Д. Швидкість знімання матеріалу при поліруванні деталей з поліметилметакрилату. Надтверді матеріали. – 2024. – № 3. – С. 63–72.
Філатов Ю. Д. Полірування напівпровідникових матеріалів для оптотехніки: матеріали XІІІ міжнар. наук.-практ. конф. «Комплексне забезпечення якості технологічних процесів та систем» / Ю. Д. Філатов, А. Ю. Бояринцев, В. І. Сідорко, С. В. Ковальов, В. А. Ковальов, О. Я. Юрчишин, м. Чернігів, 23–24 травня 2024 р. – НУ «Чернігівська політехніка», 2024. – Т. 1, С. 84–85.
Moniri S., Ghoranneviss M., Hantehzadeh M. R., Asadabad M. A. Synthesis and optical characterization of copper nanoparticles prepared by laser ablation. Bulletin of Materials Science. – 2017. – 40 (1). – P. 37–43.
Tahir D., Tougaard S. Electronic and optical properties of Cu, CuO and Cu2O studied by electron spectroscopy. J. Phys.: Condens. Matter. – 2012. – 24 (175002). 8 p.
Філатов Ю. Д. Енергія перенесення під час взаємодії оптичної поверхні з полірувальною дисперсною системою / Ю. Д. Філатов, В. І. Сідорко, А. Ю. Бояринцев, С. В. Ковальов, В. А. Ковальов. Надтверді матеріали. – 2022. – № 2. – С. 58–69.
Опубліковано
Як цитувати
Номер
Розділ
Ліцензія
Авторське право (c) 2024 Юрій Філатов, Андрій Бояринцев, Володимир Сідорко, Сергій Ковальов, Олександр Колесніков, В. Новгородцев, Віктор Ковальов, Оксана Юрчишин
Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Автори, які публікуються у цьому журналі, погоджуються з такими умовами:
- Автори залишають за собою право на авторство своєї роботи та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії CC BY 4.0, яка дозволяє іншим особам вільно розповсюджувати опубліковану роботу з обов'язковим посиланням на авторів оригінальної роботи та першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Автори мають право укладати самостійні додаткові угоди щодо неексклюзивного розповсюдження роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом (наприклад, розміщувати роботу в електронному сховищі установи або публікувати у складі монографії), за умови збереження посилання на першу публікацію роботи у цьому журналі.
- Політика журналу дозволяє і заохочує розміщення авторами в мережі Інтернет (наприклад, у сховищах установ або на особистих веб-сайтах) рукопису роботи, як до подання цього рукопису до редакції, так і під час його редакційного опрацювання, оскільки це сприяє виникненню продуктивної наукової дискусії та позитивно позначається на оперативності та динаміці цитування опублікованої роботи.